工业硅成分分析标准物质
Silicon metal
本标准物质适用于工业硅材料的产品质量检验、测量仪器的校准,测量方法的评价和统一测试量值,也可用于此类产品生产控制分析、仲裁分析和检测人员的考核等。
一、制备方法
成分设计→原料选取→干燥→颚式破碎机粗破碎→对辊破碎机细破碎→球磨机研磨→磁选→筛分<0.080mm(180目)→机械混匀10r/min→密封保存→均匀性初检→包装→均匀性复检→数理统计→定值
二、认定值及不确定度(%)
国家编号
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样品编号
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样品名称
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元素
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Fe
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Al
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Ca
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Ti
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P |
Ni
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Mn
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GBW(E)010359
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ZBY347
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工业硅
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认定值
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0.65
|
0.360
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0.067
|
0.035
|
0.0055
|
0.015
|
0.0083
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不确定度
|
0.02
|
0.007
|
0.002
|
0.002
|
0.0002
|
0.002
|
0.0004
|
GBW(E)010360
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ZBY348
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工业硅
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认定值
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0.62
|
0.273
|
0.069
|
0.033
|
0.0077
|
0.0045
|
0.017
|
不确定度
|
0.02
|
0.004
|
0.003
|
0.002
|
0.0002
|
0.0003
|
0.002
|
GBW(E)010361
|
ZBY349
|
工业硅
|
认定值
|
0.57
|
0.275
|
0.065
|
0.032
|
0.0076
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0.0042
|
0.016
|
不确定度
|
0.02
|
0.003
|
0.003
|
0.004
|
0.0004
|
0.0003
|
0.002
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注:1、测量组数为8。
2、表中不确定度以扩展不确定度表示,包含因子为2。
三、分析方法
元素
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方法
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Fe
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1,10-二氮杂菲光度法,电感耦合等离子体发射光谱法
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Al
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络天青S光度法,电感耦合等离子体发射光谱法
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Ca
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电感耦合等离子体发射光谱法,原子吸收光谱法
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Ni
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电感耦合等离子体发射光谱法,原子吸收光谱法
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Ti
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二安替吡啉甲烷光度法,电感耦合等离子体发射光谱法
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Mn
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电感耦合等离子体发射光谱法,火焰原子吸收光谱法
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P |
铋磷钼蓝光度法,电感耦合等离子体发射光谱法
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四、均匀性检验
从混匀的样品中随机抽取30瓶(小包装),采用方差F检验法,检验结果:F
五、包装、使用和储存
瓶装,净重50g,塑封。称样后将瓶盖拧紧,存放于干燥处,使用前混匀。
六、溯源性
本标准物质采用多种分析方法由多家实验室定值,其量值可溯源到基准物质或SI 国际单位制,通过使用满足计量学特性要求的测量方法和计量器具,保证标准物质的量值溯源性。
注:以上信息仅供参考,以产品附带证书为准。